t_156">这样搞,无论是良率还是稳定性都特别差。
好在东德的合作很快到来,就像一阵春风,东德在光学仪器上,帮助他们快速解决了原本无法解决的关卡。
一个接一个的克服,能做到微米级的步进式光刻机打造出来后,芯片印刷上的难题都迎刃而解。
按照原历史,华国本来也在1965年,由华国科学院微电子研究所和申海光学仪器厂一起合作,研发出了华国第一台65型接触式光刻机。
《19561967年科学技术发展远景规划纲要》里关于半导体技术制定的计划,几乎都实现了。
只是现在,因为有了更具体的目标。
65式这种只是基于研发的机器是肯定无法满足。
华国和东德合作,造出来要更符合实际生产需要,已经和原本1985年才搞出来的分步光刻机相差不大了。
剩下的就是高纯度的硅,国内硅片常含杂质。
进口高纯硅受限。
从区域精炼工艺到炉子改造,再到温度精准监控。
这些都无法依赖东德,只能靠自己。
树莓派在这个过程中起到了巨大作用。
改进后的区域精炼设备,如果只考虑温度控制系统,这套基于树莓派计算打造的温度控制系统,比德州仪器的还要更先进。
不过越是研发,华国科研人员内心的紧迫感就更甚。
毕竟整个51区知道树莓派存在的人里,从上到下,没有一个会觉得树莓派只有华国有。
大家都很清楚,阿美莉卡也有,而且只会更多。
在这样的想法下,他们都以为自己只是接近阿美莉卡最先进水平。
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