第二百八十二章 滴胶

民勤县，西南侧的高新技术产业园。

春节期间还有很多人员留下来工作。

其中海陆丰公司、民勤集团、长江存储和几家国产半导体设备企业组成的521实验室、522实验室、523实验室，不仅仅没有放假，反而在过年期间，陆陆续续增加了很多科研人员过来。

这三个联合实验室目前有493名研究员，244名行政和后勤人员。

521实验室的区域内。

通过冷冻电镜和其他原子扫描设备的辅助，几个研究员终于将密集的镀银硅纳米管和一些实心的碳化硅管组合在一起。

这些细微的镀银硅纳米管被实心碳化硅纳米管分割成为一个个特殊的图案，这些图案就是单层芯片结构中的一部分，也是不需要光刻的那一部分。

本质上光刻工艺，就是通过极紫外光将一部分需要清除的光刻胶溶破坏掉，然后通过清洗，将被破坏的光刻胶去掉，最后采用蚀刻、沉积等工艺，将这些凹槽利用起来。

当然，实际操作起来，这些工艺会非常复杂，需要反复进行光刻、蚀刻、沉积、擦洗几十次，甚至几百上千次都有可能。

而此时这些研究员的目的，就是打算通过镀银硅纳米管，解决国内一直难以追赶西方的顶尖光刻机技术。

“如何？”

可以看到原子排列结构的显影设备，此时正在显示出一个非常庞大的结构画面，负责检查的研究员抬起头来：“组长，这一片滴胶印模已经检查完成，没有发现排列错误的结构。”

组长叶瑾随即吩咐道：“那就送去切割吧！”

“好。”另一个研究员接手了切割工作。

线切工作室内，长度为20厘米的滴胶印模被一点点切割，分割成为非常精确的1厘米厚度。

这些1厘米厚度的滴

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